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詳細介紹
日本ULVAC愛發(fā)科半導體干法刻蝕設備
日本ULVAC愛發(fā)科半導體干法刻蝕設備
適合量產的NE-5700/NE-7800干法刻蝕設備是一款可擴展的刻蝕設備,支持從一個腔室到多個腔室,強調性價比。
除1個腔體外,還可配備磁場ICP(ISM)、NLD等離子體源、灰化腔體、CCP腔體,兼容多種刻蝕工藝。
配備星形電極和各種溫度控制功能,可實現過程的再現性和穩(wěn)定性。
易于維護的結構,停機時間最短,全面的備份系統(tǒng),包括再生清潔、零件供應、維護和培訓服務。
半導體技術研究院提供完善的工藝支持系統(tǒng)。
化合物(LED、LD、高頻器件)和功率器件(IGBT 布線加工、SiC 加工)。
用于金屬布線、層間絕緣膜(樹脂類)、柵電極加工工序。
用于蝕刻鐵電材料和貴金屬。
用于加工磁性材料。
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